Личный кабинет
Подробное описание документа
Моделирование ионно-имплантационной обработки материалов / Неволин В. Н., Гнедовец А. Г., Фоминский В. Ю., Кошманов В. Е., Шарфф В. // Вестник МГТУ им. Н. Э. Баумана. Сер. Машиностроение. - 2004. - № 3. -
Скачать документ
Методом “частиц в ячейках” (PIC) проведено моделирование разлета импульсной лазерной плазмы в интенсивном внешнем электрическом поле, используемом для ускорения ионов при имплантационной обработке материалов. Исследованы динамика ионной и электронной компоненты, а также особенности распределения потенциала при подключении к обрабатываемой детали отрицательных высоковольтных импульсов различной формы. Проведено сравнение расчетных и экспериментально измеренных токовых и дозовых характеристик формируемого ионного пучка. Показана возможность применения разработанной модели для оптимизации требований к технологическим параметрам и оборудованию.
621.382 Электронные элементы, использующие свойства твердого тела. Полупроводниковая электроника
Статья опубликована в следующих изданиях
№ 3. - 2004.
