Подробное описание документа
Киреев В. Ю.
Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы / Киреев В. Ю., Столяров А. А. - М. : Техносфера, 2006. - 190 с. - (Мир электроники). - Библиогр.:
Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.
Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям вузов.
621.3.049.77 Микроэлектроника. Интегральные схемы6 экз.
- Преподавательский абонемент ауд.305л, УЛК, ауд. 305л
- Преподавательский абонемент ауд.313, ГУК, ауд. 313
- Читальный зал ауд.305л, УЛК, ауд. 305л
- Читальный зал ауд.313, ГУК, ауд. 313