Скачать документ
Электронная версия, предоставленная издательством
Сагателян Г. Р.
Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра : учебное пособие / Сагателян Г. Р., Макушина Н. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2006. - 48 с. ил. -
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин.
Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника».
621.3.049.77 Микроэлектроника. Интегральные схемы1 экз.