Подробное описание документа

Юрчук С. Ю.
   Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур: Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур с нанометровыми размерами : курс лекций / Юрчук С. Ю. ; Национальный исслед. технол. ун-т "МИСиС". - М. : Изд. Дом МИСиС, 2013. - 44 с. : ил. - Библиогр.: с. 44. - ISBN 978-5-87623-662-3.

Читать онлайн

IPR SMART

Войти и читать

https://www.iprbookshop.ru/56066.html

Университетская библиотека онлайн

Войти и читать

https://biblioclub.ru/index.php?page=boo…

Аннотация

Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости.
Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».

УДК

620.3+620.22-022.532

Предметные рубрики

• Нанотехнологии
• Наноструктурные материалы

Общее кол-во в фондах

3 экз.

Заказать на абонемент

Заказать в читальный зал

1. Преподавательский абонемент ауд.305л, УЛК, ауд. 305л
2. Преподавательский абонемент ауд.313, ГУК, ауд. 313
3. Читальный зал ауд.305л, УЛК, ауд. 305л
4. Читальный зал ауд.313, ГУК, ауд. 313