Подробное описание документа

   Ионная имплантация и лучевая технология : монография / ред. Вильямс Дж. С., Поут Дж. М. ; пер. с англ. Евстигнеев А. М. ; общ. ред. Снитко О. В. - Киев : Наук. думка, 1988. - 357 с. : рис., табл. - Библиогр.: с.327-353. - ISBN 5-12-009334-5.

Аннотация

В монографии описаны физические процессы, научные основы промышленной технологии и главные направления практического применения ионной имплантации и лучевой технологии. С привлечением фундаментальных представлений освещаются образование дефектов, аморфизация, кристаллизация при ионной имплантации и факторы, определяющие глубину залегания имплантированных слоев. Дан сопоставительный анализ ионной имплантации и лучевой технологии, обсуждаются возможности их совместного применения. Приведены примеры обработки полупроводников различными имплантами.
Для специалистов в области полупроводниковой электроники, вычислительной техники, приборостроения.

УДК

621.359 Техническое применение электрокапиллярности. Электрическое осаждение

Предметные рубрики

• Ионное внедрение
• Электронная обработка металлов

Общее кол-во в фондах

1 экз.

Заказать в читальный зал

Заявка на закупку

1. Преподавательский абонемент ауд.313, ГУК, ауд. 313
2. Читальный зал ауд.313, ГУК, ауд. 313