Подробное описание документа

   Электронная промышленность : науч.- техн. сб. - М. : Изд-во Института "Электроника", 1970. - ISSN 0207-6357.
   Вып. 7(175). - 1988. - 70 с. : ил. - Библиогр. в конце ст.

В выпуске представлены материалы по использованию тонких плёнок в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем. • Управление модификацией рельефа поверхности растущей плёнки с помощью изменения технологических параметров позволяет планаризировать поверхность ИС. Разработан способ формирования планаризирующих слоёв ос-СН из направленного ионно-плазменного потока. • Разработан воспроизводимый процесс формирования кремниевых структур СБИС с диодами Шотки на основе алюминия магнетронным распылением на установке 01НИ-7-006. • Чередующиеся слои двуокиси кремния и нитрида кремния могут быть получены из одного магнетронного источника в едином цикле. • Изменение состава плазмообразующей смеси, параметров ВЧ-разряда и режимов термообработки в азотной и кислородной средах позволяет получать на основе плазмополимеризованных кремнийорганических мономеров диэлектрические слои с заданными свойствами. • Разработана динамическая система получения термическим испарением воспроизводимых тонких плёнок механической смеси, выбор компонентов которой не ограничен упругостью их паров.
• Приведены рекомендации к применению в промышленности таких методов контроля тонкопленочных структур, как иснно-фотон-ная спектроскопия, спектроскопия ионного рассеяния, спектроскопия атомов отдачи и спектроскопия обратнорассеянных ионов низких энергий, рентгеновская дифрактометрия.
• Предложены способы контроля и управления процессами плазмохимического травления: измерение температуры по величине теплового расширения сапфировой подложки, фиксация момента окончания процесса плазмохимического травления в пределах +5% с помощью спектрального и лазерного контроля. Исследована возможность измерения зондовым методом параметров анизотропной плазмы в аргоне и парах циклогексана.
• Автоматизированный квадрупольный масс-спектрометр на диапазон массовых чисел 1...300 и 2...600 а. е. м. может быть использован в составе различных физических установок, имеющих устройства ввода ионов анализируемого вещества.
• Малогабаритный безмасляный источник ионов с полым катодом для осаждения тонких пленок и очистки подложек имеет время непрерывной работы не менее 100 ч при imi»iiu> oh bmxojm г-эмо* и ионов кон-
струкцжхмы ж