Подробное описание документа

   Формирование неравномерности толщины покрытия при напылении кольцевыми магнетронами на установках планетарного типа / Сагателян Г. Р., Новиков С. Ю., Былинкин М. Н., Шишлов А. В. // Нанотехнологии. Разработка. Применение. ХХ1 век. - 2025. - Т. 17, № 3. - С. 34-45.

Постановка проблемы. Технология магнетронного напыления, обладающего рядом преимуществ, которые связаны с большой скоростью осаждения, высоким качеством получаемых пленок, универсальностью процесса и возможностью автоматизации, имеет самое широкое распространение в прецизионном приборостроении. Поэтому необходимо обеспечивать равномерность покрытия кольцевыми магнетронами в условиях планетарного движения напыляемой поверхности.
Цель. Разработать математическую модель, описывающую распределение толщины покрытия по напыляемой поверхности при магнетронном напылении кольцевыми магнетронами на основе расчета скорости роста пленки в зависимости от сочетания геометрических и кинематических факторов процесса при планетарном движении подложки.
Результаты. Разработана методика прогнозирования распределения толщины тонкопленочного покрытия на обрабатываемой поверхности при напылении кольцевыми магнетронами на установках с планетарной системой перемещения детали, основанная на созданных математических моделях, описывающих зависимость скорости осаждения тонкопленочного покрытия в отдельных точках поверхности детали от изменяющихся геометрических и кинематических параметров процесса напыления. Практическая значимость. Результаты данной работы могут использоваться для прогнозирования распределения толщины покрытия на конкретных деталях при напылении на имеющихся установках, а также при разработке средств технологического оснащения вновь проектируемых установок в зависимости от конфигурации деталей, подлежащих напылению.
Ключевые слова кольцевой магнетрон, планетарное движение заготовки, распределение толщины
покрытия, скорость роста пленки, угол эмиссии, угол конденсации, перенос систем координат, векторные уравнения