Подробное описание документа

Статья

Лужко В. В., Адарчин С. А.
Тонкие пленки в производстве интегральных микросхем / Лужко В. В., Адарчин С. А. // Наукоёмкие технологии в приборо- и машиностроении и развитие инновационной деятельности в вузе : материалы Региональной научно-технической конференции, Калуга, 15-17 апреля 2025 года : в 2 т. / МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет). - 2026. - Т. 1. - С. 121-124.

Аннотация

Рассмотрены тонкие пленки как ключевой элемент в производстве интегральных микросхем. Предоставлены основные понятия и определения, связанные с тонкими пленками. Описаны основные методы и технологии нанесения тонких пленок, включая физическое осаждение (PVD) и химическое осаждение из газовой фазы (CVD). Продемонстрировано в чем заключаются сильные и слабые стороны этих методов, а также их ключевые особенности. Особое внимание уделено материалам, которые используются для создания подложек. Сделаны выводы о применение тонких пленок в производстве интегральных микросхем.
Ключевые слова: тонкие пленки, интегральные схемы, CVD, PVD, микроэлектроника, электротехника

Авторы МГТУ

Адарчин Сергей Александрович

Статья опубликована в следующих изданиях

с. 121-124

Наукоёмкие технологии в приборо- и машиностроении и развитие инновационной деятельности в вузе : материалы Региональной научно-технической конференции, Калуга, 15-17 апреля 2025 года : в 2 т. / МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет). - М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2026. - ISBN 978-5-7038-6701-3.
Т. 1. - 2026. - 395 с. : ил. - Библиогр. в конце статей. - ISBN 978-5-7038-6706-8.

подробнее