Подробное описание документа

Перевозчикова Д. С., Андреев В. В.
   Оценка влияния состава проявителя на качество воспроизведения топологического рельефа в фотолитографическом процессе / Перевозчикова Д. С., Андреев В. В. // Наукоёмкие технологии в приборо- и машиностроении и развитие инновационной деятельности в вузе : материалы Региональной научно-технической конференции, Калуга, 15-17 апреля 2025 года : в 2 т. / МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет). - 2026. - Т. 1. - С. 157-160.

КФ МГТУ им. Н.Э. Баумана, Калуга, Россия Проанализированы особенности процесса проявления, его влияние на точность и качество воспроизводимого топологического рельефа при проведении фотолитографии в технологическом процессе изготовления интегральных микросхем. Описана специфика взаимодействия проявителей при выполнении фотолитографических процессов с разными методами экспонирования фоторезистивной пленки. Определены условия, влияющие на скорость и равномерность проявления фоторезистивной пленки. Оценено влияние добавок на стабильность и селективность проявителя при использовании позитивного фоторезиста.
Ключевые слова: фотолитография, проявление, проявитель, фоторезист