Личный кабинет
Подробное описание документа
Баклыков Д. А.
Особенности фотолитографии в глубоком ультрафиолете / Баклыков Д. А., Громов М. И., Тащев Р. А. - DOI 10.18698/2541-8009-2019-10-535 // Политехнический молодежный журнал МГТУ им. Н. Э. Баумана. - 2019. - № 10. -
Скачать документ
Рассмотрен метод фотолитографии в глубоком ультрафиолете, являющийся одним из самых перспективных на данный момент. Показаны основные преимущества и недостатки данного метода, характерные материалы фоторезистов и оптической системы. Подробно описана система передачи изображения на подложку с выделение функции каждого покрытия, используемого в ней. Приведена конструкция установки для воспроизведения метода фотолитографии в глубоком ультрафиолете, а также подробно рассмотрены отдельные компоненты системы с выделением требований к каждому из них. Показаны современные области применения метода и его производственные ограничения.
Статья опубликована в следующих изданиях
№ 10. - 2019.
