Личный кабинет
Подробное описание документа
Антропов Г. М.
Перспектива метода многокритериальной оптимизации в процессе ионного имплантирования микрокомпонентов / Антропов Г. М. // Политехнический молодежный журнал МГТУ им. Н. Э. Баумана. - 2025. - № 4. -
Скачать документ
Сегодня при производстве полупроводников для изготовления имплантатов используется почти вся таблица Менделеева. Наиболее часто в кремниевом производстве применяют следующие легирующие примеси: мышьяк, фосфор, бор, дифторид бора, индий, сурьма, германий, кремний, азот, водород, и другие. Существует целая хронология создания, слияния и закрытия крупных зарубежных компаний — поставщиков оборудования для ионного имплантирования. С каждым годом в России растет существующая потребность в микропроцессорах как простого, так и сложного исполнения. Научно-исследовательские институты и конструкторские бюро предлагают различные решения установок с ионными импланторами. В данной статье представлены планы и предложены идеи по оптимизации работы установки для ионного имплантирования.
Статья опубликована в следующих изданиях
№ 4. - 2025.
