Личный кабинет
Подробное описание документа
Патент на изобретение № 2804791 Российская Федерация, МПК H01L 21/3065.
Способ изготовления глубокопрофильных многоуровневых микроструктур в кварцевом стекле : № 2023113800 : заявл. 26.05.2023 : опубл. 05.10.2023 / Константинова Т. Г., Стукалова В. Е., Родионов И. А. [и др.] ; патентообладатель МГТУ им. Н.Э. Баумана.
Изобретение относится к области приборостроения, для изготовления микромеханических приборов. Способ изготовления глубокопрофильных многоуровневых микроструктур отличается тем, что первый слой защитной маски - металлическая плёнка, в качестве режима двусторонней фотолитографии используют двустороннюю фотолитографию с применением градиента интенсивности для формирования первой ступени и второй ступени в фоторезистивном слое защитной маски, в качестве метода химического травления подложки из кварцевого стекла используют метод жидкостного травления в растворах плавиковой кислоты, после формирования первого уровня микроструктур проводят утонение фоторезистивного слоя защитной маски плазменным травлением на глубину первой ступени с последующим жидкостным травлением первого слоя маски и формированием второго уровня микроструктур, для формирования третьего уровня микроструктур утоняют фоторезистивный слой защитной маски на глубину второй ступени и проводят операции жидкостного травления первого ...
