Личный кабинет
Подробное описание документа
Физические основы электронно-ионно-лучевых и плазменных технологий : учебное пособие для аспирантов направления 11. 06. 01 / Золотухин Д. Б., Климов А. С., Тюньков А. В. [и др.]. - Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, 2020. -
Рассматриваются основные физические процессы взаимодействия ускоренных частиц и плазмы с веществом, принципы работы пучкового и плазменного технологического оборудования, применение электронно-ионно-плазменных технологий в промышленности. Для аспирантов направления подготовки 11.06.01, а также студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся в области физической электроники, ионно-плазменных и лучевых технологий, вакуумной и плазменной электроники, микро- и наноэлектроники, физики твердого тела, материаловедения. Учебное пособие может быть полезным для специалистов и инженеров, сфера деятельности которых касается взаимодействия плазмы и ионных пучков с поверхностью, методов обработки материалов потоками заряженных частиц.
