Орликовский Николай Александрович

   Влияние дозы экспонирования на стойкость негативного электронного резиста HSQ в процессах плазмохимического и химического травления / Мягоньких А. В., Орликовский Н. А., Рогожин А. Е., Татаринцев А. А., Руденко К. В. // Микроэлектроника. - 2018. - Т. 47, № 3. - С. 179-186.