Подробное описание документа

Статья

Влияние дозы экспонирования на стойкость негативного электронного резиста HSQ в процессах плазмохимического и химического травления / Мягоньких А. В., Орликовский Н. А., Рогожин А. Е., Татаринцев А. А., Руденко К. В. // Микроэлектроника. - 2018. - Т. 47, № 3. - С. 179-186.

УДК
537.533.9 Прочие действия пучков электронов

Авторы МГТУ

Орликовский Николай Александрович

Статья опубликована в следующих изданиях

с. 179-186

Журнал

Микроэлектроника.
Т. 47, № 3. - 2018.

подробнее