Подробное описание документа
Антоненко К. И.
Процессы вакуумной и плазменной обработки материалов : учеб. пособие / Антоненко К. И. ; Национальный исследовательский ун-т "МИЭТ". - М. : МИЭТ, 2012.
Ч. 1 : Теоретические основы. - 2012. - 216 с. : ил. - Библиогр.:
Представлены основные методы получения и измерения вакуума и технологической плазмы. Рассмотрены типы эмиссии электронов из твердого тела, формирование потока электронов, управление их движением и энергией. Приведены ключевые параметры, характеристики и свойства плазмы. Подробно рассмотрены процессы столкновения частиц и механизмы формирования энергетически и химически активной плазмы.
Предназначено для студентов старших курсов и аспирантов, специализирующихся в области микро- и наноэлектроники.
1 экз.
- Преподавательский абонемент ауд.305л, УЛК, ауд. 305л
- Читальный зал ауд.305л, УЛК, ауд. 305л