Влияние дозы экспонирования на стойкость негативного электронного резиста HSQ в процессах плазмохимического и химического травления / Мягоньких А. В., Орликовский Н. А., Рогожин А. Е., Татаринцев А. А., Руденко К. В.
Используя сайт Библиотеки МГТУ им. Н. Э. Баумана,
Вы соглашаетесь с использованием технических файлов (cookie) и сервисов сбора и анализа статистики посещений
для обеспечения работоспособности сайта и улучшения качества обслуживания.
Подробнее о технических файлах (cookie).