Подробное описание документа

Журнал

Микроэлектроника.
Т. 47, № 3. - 2018.

Читать онлайн

Скачать оглавление

Общее кол-во в фондах
1 экз.

Заказать в читальный зал

Вы можете получить данный документ в одном из следующих отделов

Преподавательский абонемент ауд.313, ГУК, ауд. 313
Читальный зал ауд.313, ГУК, ауд. 313

Содержание

с. 179-186

Статья

Влияние дозы экспонирования на стойкость негативного электронного резиста HSQ в процессах плазмохимического и химического травления / Мягоньких А. В., Орликовский Н. А., Рогожин А. Е., Татаринцев А. А., Руденко К. В.

подробнее