Подробное описание документа

Хохлун С. А., Сидорова С. В.
   Исследование влияния плазмохимического травления на гидрофильность поверхности ltcc подложек / Хохлун С. А., Сидорова С. В. // Будущее машиностроения России. Всероссийская конференция молодых учёных и специалистов ( с международным участием), 17-я, Москва, 21-24 сентября 2024 г. : сборник докладов : в 2 т. / МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет), Союз машиностроителей России. - 2025. - Т. 1. - С. 261-264.

Рассматриваются вопросы применения низкотемпературной керамики для изготовления компонентов микроэлектронных систем и в качестве подложек для нанесения покрытий. Основное внимание уделено влиянию плазмохимического травления на гидрофильность поверхности керамики, что важно для нанесения тонких пленок и масок. Представлены экспериментальные данные по изменению угла смачивания при использовании различных газовых смесей для плазменной обра-ботки. Получены математические модели, описывающие зависимость гидрофильности поверхности от параметров плазмохимического травления. Представлены результаты анализа структуры поверхности керамики с помощью сканирующего электронного микроскопа на разных этапах производственного цикла.
Ключевые слова: LTCC, низкотемпературная керамика, плазмохимическое травление, гидрофильность поверхности, сканирующая электронная микроскопия, плазменное травление