Подробное описание документа

Артемьев И. В., Купцов А. Д., Сидорова С. В.
   Оптимизация режимов ВЧ-магнетронного распыления для получения тонкопленочных покрытий титана / Артемьев И. В., Купцов А. Д., Сидорова С. В. // Будущее машиностроения России. Всероссийская конференция молодых учёных и специалистов (с международным участием), 18-я, (Москва, 23 - 26 сентября 2025 года) : сборник докладов : в 2 т. / МГТУ им. Н. Э. Баумана, Союз машиностроителей России. - 2026. - Т. 1. - С. 331-334.

Скачать документ

Полнотекстовый документ

В работе показана актуальность применения тонких пленок тугоплавких металлов, в частности, островковых пленок молибдена и титана, в различных устройствах для микроэлектроники, оптики, фотоники, биоинженерии и медицины. Описаны метод и оборудование для формирования тонкопленочных покрытий с помощью магнетронного распыления. Рассмотрены возможности и ограничения метода высокочастотного магнетронного распыления. Представлены результаты проведения полного факторного эксперимента в виде уравнения регрессии, учитывающего зависимость толщины тонкопленочного покрытия титана от режимов процесса ВЧ-магнетронного распыления. С помощью специализированного программного обеспечения обработаны и оценены результаты исследования зависимости толщины пленки титана от режимов процесса нанесения и параметров оборудования.