Расширенный поиск

Бокарев В. П., Горнев Е. С.
   Применение контрастной литографии в процессах переноса субмикрометрового изображения при изготовлении МЭМС и ПАВ-устройств / Бокарев В. П., Горнев Е. С. // Нано- и микросистемная техника. - 2010. - № 7. - С. 23-27.

Григорьев П. В., Шимчук Т., Цивинская Т. А.
   Анализ технологий прямой металлизации отверстий печатных плат. Ч. 2 / Григорьев П. В., Шимчук Т., Цивинская Т. А. // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2019. - № 1. - С. 128-136.

   Методика автоматизированного проектирования электронных коммутационных структур в среде altium designer. Топологическое проектирование / Власов А. И., Гриднев В. Н., Жалнин В. П., Емельянов Е. И. // Датчики и системы. - 2016. - № 11. - С. 28-39.

Миронова Ж. А., Шахнов В. А., Гриднев В. Н.
   Высокоплотная компоновка проводящего рисунка многослойных коммутационных плат / Миронова Ж. А., Шахнов В. А., Гриднев В. Н. // Вестник МГТУ им. Н. Э. Баумана. Сер. Приборостроение. - 2014. - № 6. - С. 61-70.

Можаров В. А.
   Обеспечение пространственного совмещения элементов межсоединений в многослойных печатных структурах : автореф. дис... ктн : 05. 11. 14 / Можаров В. А. ; Моск. авиационный ин-т (Нац. исслед. ун-т). - М., 2013. - 16 с. : ил.

Можаров В. А.
   Обеспечение пространственного совмещения элементов межсоединений в многослойных печатных структурах : дис.... ктн : 05. 11. 14 / Можаров В. А. ; Моск. авиационный ин-т (Нац. исслед. ун-т). - М., 2013. - 149 л. : ил. - Библиогр.: л. 142-149.

   Оценка размерных показателей элементов проводящего рисунка печатных плат, полученных с помощью 3d-печати / Смирнова О. Н., Александров А. А., Боброва Ю. С., Моисеев К. М. // Известия ВУЗов России. Радиоэлектроника. - 2023. - Т. 26, № 4. - С. 81-94.

   Технология изготовления полугибких печатных плат / Боброва Ю. С., Абрамов А. А., Лаухин А. М., Чернобровкин Д. С. // Сборка в машиностроении, приборостроении. - 2019. - Т. 20, № 3. - С. 99-105.

   Фотолитография толстых слоев пленочного фоторезиста в полуаддитивной технологии изготовления плат силовых модулей / Боброва Ю. С., Андроник М. М., Щербаков В. И., Китаев И. В. // Наноинженерия. - 2015. - № 9. - С. 8-12.

Цветков Ю. Б.
   Управление топологической точностью фотолитографии : учеб. пособие по курсу "Элионные технологии" / Цветков Ю. Б. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2005. - 174 с. : ил. - Библиогр.: с. 170-172.