Подробное описание документа

Бокарев В. П., Горнев Е. С.
   Применение контрастной литографии в процессах переноса субмикрометрового изображения при изготовлении МЭМС и ПАВ-устройств / Бокарев В. П., Горнев Е. С. // Нано- и микросистемная техника. - 2010. - № 7. - С. 23-27.

УДК

621.3.049.75 Печатные схемы

Статья опубликована в следующих изданиях