Подробное описание документа
Журнал
Нано- и микросистемная техника.
№ 7. - 2010.
1 экз.
Вы можете получить данный документ в одном из следующих отделов
- Преподавательский абонемент ауд.313, ГУК, ауд. 313
- Читальный зал ауд.313, ГУК, ауд. 313
Содержание
с. 2-8
Статья
Гомогенное и гетерогенное формирование кластеров катализаторов для роста углеродных нанотрубок / Булярский С. В., Басаев А. С., Галперин В. А., Павлов А. А., Пятилова О. В., Цыганцов А. В., Шаман Ю. П.
с. 8-12
Статья
Мустафаев Г. А., Мустафаев Аб. Г., Мустафаев Ар. Г.
Влияние конструкции на характеристики субмикронных КНИ МОП-транзисторов / Мустафаев Г. А., Мустафаев Аб. Г., Мустафаев Ар. Г.
Влияние конструкции на характеристики субмикронных КНИ МОП-транзисторов / Мустафаев Г. А., Мустафаев Аб. Г., Мустафаев Ар. Г.
с. 13-15
Статья
Возбуждение колебаний поляризации при прохождении электрического импульса в тонкой сегнетоэлектрической пленке / Мишина Е. Д., Сигов А. С., Казанцева Е. В., Мухортов В. М.
с. 15-18
Статья
Деформационно-прочностные свойства модифицированных полиимид-кремниевых упруго-шарнирных микроструктур / Бабаевский П. Г., Жуков А. А., Корпухин А. С., Резниченко Г. М.
с. 19-22
Статья
Серегин Д. С.
Влияние температуры кристаллизации на электрофизические свойства пленок ЦТС / Серегин Д. С.
Влияние температуры кристаллизации на электрофизические свойства пленок ЦТС / Серегин Д. С.
с. 23-27
Статья
Бокарев В. П., Горнев Е. С.
Применение контрастной литографии в процессах переноса субмикрометрового изображения при изготовлении МЭМС и ПАВ-устройств / Бокарев В. П., Горнев Е. С.
Применение контрастной литографии в процессах переноса субмикрометрового изображения при изготовлении МЭМС и ПАВ-устройств / Бокарев В. П., Горнев Е. С.
с. 27-30
Статья
Технология изготовления аккумуляторов водорода на основе углеродных пленок, легированных фтором / Афанасьев М. С., Митягин А. Ю., Чучева Г. В., Косарев С. А., Колодяжный И. Ю.
с. 30-32
Статья
Штенников В. Н.
Методика обеспечения требуемой температуры контактной пайки / Штенников В. Н.
Методика обеспечения требуемой температуры контактной пайки / Штенников В. Н.
с. 32-37
Статья
Влияние облучения на характеристики приборов с накоплением заряда / Войцеховский А. В., Коханенко А. П., Коротаев А. Г., Григорьев Д. В., Кульчицкий Н. А., Мельников А. А.
с. 37-41
Статья
Драгунов В. П., Остертак Д. И.
Электростатические взаимодействия в МЭМС с плоскопараллельными электродами. Часть I. Расчет емкостей / Драгунов В. П., Остертак Д. И.
Электростатические взаимодействия в МЭМС с плоскопараллельными электродами. Часть I. Расчет емкостей / Драгунов В. П., Остертак Д. И.
с. 41-44
Статья
Боронахин А. М., Иванов П. А., Суров И. Л.
Коррекция влияния линейного ускорения на показания микромеханического гироскопа / Боронахин А. М., Иванов П. А., Суров И. Л.
Коррекция влияния линейного ускорения на показания микромеханического гироскопа / Боронахин А. М., Иванов П. А., Суров И. Л.
с. 45-50
Статья
Системы реологического типа для микро- и нанопозиционирования и виброизоляции / Михайлов В. П., Базиненков А. М., Кузнецов А. С., Зобов И. К., Шаков К. Г.
с. 50-52
Статья
Негров Д. В., Лейченко А. С., Шешин Е. П.
Элемент дисплейной матрицы на основе автоэмиссионного катода из терморасширенного графита / Негров Д. В., Лейченко А. С., Шешин Е. П.
Элемент дисплейной матрицы на основе автоэмиссионного катода из терморасширенного графита / Негров Д. В., Лейченко А. С., Шешин Е. П.