Подробное описание документа

   Фотолитография толстых слоев пленочного фоторезиста в полуаддитивной технологии изготовления плат силовых модулей / Боброва Ю. С., Андроник М. М., Щербаков В. И., Китаев И. В. // Наноинженерия. - 2015. - № 9. - С. 8-12.

УДК

621.3.049.75 Печатные схемы

Авторы МГТУ

• Боброва Юлия Сергеевна

Статья опубликована в следующих изданиях