Подробное описание документа

Купцов А. Д., Сидорова С. В.
   Модуль вакуумной ионной подготовки подложек больших размеров для процессов формирования тонких пленок с малыми значениями механических напряжений / Купцов А. Д., Сидорова С. В. // Будущее машиностроения России. Всероссийская конференция молодых учёных и специалистов ( с международным участием), 17-я, Москва, 21-24 сентября 2024 г. : сборник докладов : в 2 т. / МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет), Союз машиностроителей России. - 2025. - Т. 1. - С. 243-246.

Описана актуальность и важность подготовки подложки для применения тонкопленочных покрытий. Показаны основные методы очистки подложки от органических и диэлектрических загрязнений. Представлена классификация типов источников ионов для вакуумной техники тонких пленок. Описаны их отличительные конструкционные особенности. Описаны существующие принципы изменения угла падения ионного столба относительно плоскости подложки. Представлена новая концепция отклонения системы ионного пучка для очистки и активации подложки, размер которой превышает размер ионного пучка. Разработана и собрана конструкция, в основе которой находится шаговый мотор, передача винт-гайка и вакуумный сильфон.
Ключевые слова: источник ионов, тонкопленочные покрытия, напряженное состояние, подготовка подложек, система наклона источника ионов