Расширенный поиск

Берлин Е. В., Сейдман Л. А.
   Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Берлин Е. В., Сейдман Л. А. - Москва : ТЕХНОСФЕРА, 2014. - 255 с. : ил. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр.: с.242-255. - ISBN 978-5-94836-369-1.

   Высокие технологии в промышленности России (материалы и устройства функциональной электроники и микрофотоники). XX Междунар. научно-техн. конф. Тонкие пленки в электронике. XXVII Междунар. симпозиума. Наноинженерия. VII Междунар. научно-техн. конф. : сборник научных трудов / МГТУ им. Н. Э. Баумана ; ред. Белянин А. Ф., Панфилов Ю. В., Самойлович М. И. - Москва : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2015. - 329 с. : ил. - Библиогр. в конце ст. - ISBN 978-5-7038-4242-3.

Шупенев А. Е.
   Разработка технологии создания высокоэффективных тонкопленочных термоэлектрических материалов методом импульсного лазерного осаждения : автореф. дис... ктн : 05.02.07 : 05.27.06 / Шупенев А. Е. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2017. - 16 с.

Шупенев А. Е.
   Разработка технологии создания высокоэффективных тонкопленочных термоэлектрических материалов методом импульсного лазерного осаждения : дис... ктн : 05.02.07 : 05.27.06 / Шупенев А. Е. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2017. - 131 л. : ил. - Библиогр.: л.113-123.

   Высокие технологии в промышленности России (материалы и устройства функциональной электроники и микрофотоники) : материалы 19 Международной научно-технической конф., Москва,11-13 сентября 2014 г. Тонкие пленки в электронике : материалы 26 Международной научно-технической конф., Москва, 11-13 сентября 2014 г. Наноинженерия : материалы 6 Международной нучно-технической конф., Москва, 11-13 сентября 2014 г. / [к сб.в целом] МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2014. - 413 с. : ил. - Библиогр. в конце статей. - Посвящается 75-летию специальности "Электронное машиностроение". - ISBN 5-902740-04-05.

Ибрагимов А. Р.
   Физико-технологические основы управляемого формирования фотонно-кристаллических отражающих слоёв фотонно-плазмонных систем : 2.2.3 Технология и оборудование для производства материалов и приборов электронной техники : дис... ктн / Ибрагимов А. Р. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2025. - 166 л. : ил. - Библиогр.: л.147-166.

Ибрагимов А. Р.
   Физико-технологические основы управляемого формирования фотонно-кристаллических отражающих слоёв фотонно-плазмонных систем : 2.2.3 Технология и оборудование для производства материалов и приборов электронной техники : автореф. дис... ктн / Ибрагимов А. Р. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2025. - 16 с. : ил. - Библиогр.: с.16.

Пандас А. М.
   Наноструктурированные анодные оксидные плёнки на ниобии и титане : 1.3.8 Физика конденсированного состояния : автореф. дис... ктн / Пандас А. М. ; Петрозаводский государственный университет. - Москва, 2026. - 17 с. : ил. - Библиогр.: с.16-17.

Пандас А. М.
   Наноструктурированные анодные оксидные плёнки на ниобии и титане : 1.3.8 Физика конденсированного состояния : дис... ктн / Пандас А. М. ; Петрозаводский государственный университет. - Петрозаводск, 2025. - 205 л. : ил. - Библиогр.: л.168-189.

Александрова О. А., Лебедев А. О., Мараева Е. В.
   Введение в технологию материалов микроэлектроники : учебник / Александрова О. А., Лебедев А. О., Мараева Е. В. - Санкт-Петербург : Лань, 2025. - (Высшее образование). - ISBN 978-5-507-45478-5.
   Ч. 3 : Эпитаксиальный рост. - 2025. - 212 с. : ил. - Библиогр.: с.207-210. - ISBN 978-5-507-45481-5.