Расширенный поиск

Рабинович О. И., Крутогин Д. Г., Евсеев В. А.
   Основы технологии электронной компонентной базы. Моделирование технологических процессов получения тонкопленочных материалов : учебно-методическое пособие / Рабинович О. И., Крутогин Д. Г., Евсеев В. А. ; Министерство образования и науки Российской Федерации, Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", Кафедра технологии материалов электроники. - Москва : Издательский дом МИСиС, 2012. - 80 с. : ил. - Библиогр. в конце разделов. - ISBN 978-5-87623-566-4.

   Магнитооптические плёнки феррит-гранатов и их применение / РАН ; отв. ред. тома Воронько Ю. Г., Рандошкин В. В. - Москва : Наука, 1992. - 163 с. : ил. - (Труды / Ин-т общ. физики ; т. 35). - Библиогр.: с.4, в конце статей. - ISBN 5-02-006754-7.

Акчурин Р. Х., Мармалюк А. А.
   МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники / Акчурин Р. Х., Мармалюк А. А. - Москва : ТЕХНОСФЕРА, 2018. - 487 с. : ил. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр. в конце гл. - ISBN 978-5-94836-521-3.

Родионов И. А.
   Технологии интегральных устройств квантовой обработки информации : 2.2.3 Технология и оборудование для производства материалов и приборов электронной техники : 2.2.2 Электронная компонентная база микро- и наноэлектроники, квантовых устройств : автореф. дис... дтн / Родионов И. А. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2026. - 32 с. : рис. - Библиогр.: с.28-32.

Родионов И. А.
   Технологии интегральных устройств квантовой обработки информации : 2.2.3 Технология и оборудование для производства материалов и приборов электронной техники : 2.2.2 Электронная компонентная база микро- и наноэлектроники, квантовых устройств : дис... дтн / Родионов И. А. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 2026. - 399 л. : рис., табл. - Библиогр.: л.366-399.

Цой Б., Карташов Э. М., Шевелев В. В.
   Прочность и разрушение полимерных плёнок и волокон / Цой Б., Карташов Э. М., Шевелев В. В. - Москва : Химия, 1999. - 494 с. : ил. - Библиогр.: с.479-494. - ISBN 5-7245-1132-0.

Дубровский В. Г.
   Теория формирования эпитаксиальных наноструктур / Дубровский В. Г. - Москва : Физматлит, 2009. - 350 с. : ил. - (Фундаментальная и прикладная физика). - Библиогр.: с.338-350. - ISBN 978-5-9221-1069-3.

Боков А. Е.
   Исследование предельных условий существования стекающей пленки жидкости на вертикальной обогреваемой поверхности : 01.04.14 : автореф. дис... ктн / Боков А. Е. ; МВТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 1981. - 17 с.

Боков А. Е.
   Исследование предельных условий существования стекающей пленки жидкости на вертикальной обогреваемой поверхности : 01.04.14 : дис... ктн / Боков А. Е. ; МВТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва, 1980. - 177 л. ил. - Библиогр.: л.170-177.

   Формирование гетероструктур наноприборов методом молекулярно-лучевой эпитаксии : учеб. пособие / Шашурин В. Д., Малышев К. В., Мешков С. А. [и др.] ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - Москва : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2009. - 42 с. : ил. - Библиогр.: с.41.