56 записей
Чжо Зин Пьо
Формирование плёнок дисульфида молибдена для электроники методом магнетронного распыления стехиометрических мишеней : автореф. дис... ктн : 05. 27. 06 / Чжо Зин Пьо ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (Национальный исследовательский университет). - М., 2021. - 16 с.
Формирование плёнок дисульфида молибдена для электроники методом магнетронного распыления стехиометрических мишеней : автореф. дис... ктн : 05. 27. 06 / Чжо Зин Пьо ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (Национальный исследовательский университет). - М., 2021. - 16 с.
Берлин Е. В., Сейдман Л. А.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Берлин Е. В., Сейдман Л. А. - 2-е изд., испр. и доп. - М. : URSS : Ленанд, 2022. - 316 с. : рис., табл. - Библиогр.:с. 304-316 . - ISBN 978-5-9710-9680-1 .
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Берлин Е. В., Сейдман Л. А. - 2-е изд., испр. и доп. - М. : URSS : Ленанд, 2022. - 316 с. : рис., табл. - Библиогр.:
Автореферат диссертации
Одиноков В. В.
Основы расчета параметров и создание автоматизированного многокамерного вакуумного оборудования непрерывного действия с магнетронными системами распыления для производства СБИС : 05. 13. 07 : 05. 27. 07 : автореф. дис... дтн / Одиноков В. В. ; НИИТМ. - М., 1995. - 32 с.
Основы расчета параметров и создание автоматизированного многокамерного вакуумного оборудования непрерывного действия с магнетронными системами распыления для производства СБИС : 05. 13. 07 : 05. 27. 07 : автореф. дис... дтн / Одиноков В. В. ; НИИТМ. - М., 1995. - 32 с.
Анищенко Л. М., Лавренюк С. Ю., Петрухин В. В.
Автоматизированное проектирование и моделирование технологических процессов микроэлектроники / Анищенко Л. М., Лавренюк С. Ю., Петрухин В. В. - М. : Радио и связь, 1995. - 175 с. : ил. - Библиогр.:с. 171-175 . - ISBN 5-256-00577-4 .
Автоматизированное проектирование и моделирование технологических процессов микроэлектроники / Анищенко Л. М., Лавренюк С. Ю., Петрухин В. В. - М. : Радио и связь, 1995. - 175 с. : ил. - Библиогр.:
Семенов А. П.
Техника распыления ионными пучками / Семенов А. П. ; РАН. СО. Бурятский научный центр, Институт естественных наук ; отв. ред. Ломухин Ю. Л. - Улан-Удэ : Изд-во БНЦ СО РАН, 1996. - 118 с. - Библиогр.:с. 106-118 . - ISBN 5-7623-1110-4 .
Техника распыления ионными пучками / Семенов А. П. ; РАН. СО. Бурятский научный центр, Институт естественных наук ; отв. ред. Ломухин Ю. Л. - Улан-Удэ : Изд-во БНЦ СО РАН, 1996. - 118 с. - Библиогр.:
Диссертация
Одиноков В. В.
Основы расчета параметров и создание автоматизированного многокамерного вакуумного оборудования непрерывного действия с магнетронными системами распыления для производства СБИС : 05. 13. 07 : 05. 27. 07 : дис... дтн / Одиноков В. В. ; НИИ точн. машиностроения. - М., 1995. - 32 л. - Библиогр.:л. 30-32 .
Основы расчета параметров и создание автоматизированного многокамерного вакуумного оборудования непрерывного действия с магнетронными системами распыления для производства СБИС : 05. 13. 07 : 05. 27. 07 : дис... дтн / Одиноков В. В. ; НИИ точн. машиностроения. - М., 1995. - 32 л. - Библиогр.:
Высокие технологии в промышленности России (Материалы и устройства функциональной электроники и микроэлектроники): материалы XIII междунар. научно-техн. конф. Тонкие пленки в электронике: материалы XX междунар. симпозиума (Москва, МГТУ им. Н. Э. Баумана, 6-8 сентября 2007 г.) / МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М. : Изд-во ЦНИТИ "ТЕХНОМАШ", 2007. - 459 с. : ил. - ISBN 5-902740-04-5 .
Дубровский В. Г.
Теория формирования эпитаксиальных наноструктур / Дубровский В. Г. - М. : Физматлит, 2009. - 350 с. : ил. - (Фундаментальная и прикладная физика). - Библиогр.:с. 338-350 . - ISBN 978-5-9221-1069-3 .
Теория формирования эпитаксиальных наноструктур / Дубровский В. Г. - М. : Физматлит, 2009. - 350 с. : ил. - (Фундаментальная и прикладная физика). - Библиогр.:
Высокие технологии в промышленности России (материалы и устройства функциональной электроники и микрофотоники): материалы XIV Междунар. науч. -техн. конф., Москва, 11-13 сентября 2008 г. Тонкие пленки в электронике : матералы XXI Междунар. симп., Москва, 11-13 сентября 2008 г. / Центральный научно-исследовательский технологический ин-т. - М. : Изд-во ЦНИТИ "ТЕХНОМАШ", 2008. - 501 с. : ил. - Библиогр. в конце ст. - ISBN 978-5-902740-11-7 .
Высокие технологии в промышленности России (материалы и устройства функциональной электроники и нанофотоники): материалы XV Междунар. научно-техн. конференции, Москва, 9-11 сентября 2009 г. Тонкие пленки в электронике : материалы XXII Междунар. симпозиума, Москва, 9-11 сентября 2009 г. : сборник / МГТУ им. Н. Э. Баумана, Центральный научно-исследовательский технологический институт "Техномаш". - М. : ЦНИТИ "Техномаш", 2009. - 535 с. : ил. - Библиогр. в конце ст. - ISBN 978-5-902740-19-3 .