Расширенный поиск

Пащенко А. С., Пляка П. С., Понмаренко В. О.
   Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике : [монография] / Пащенко А. С., Пляка П. С., Понмаренко В. О. ; РАН. - Ростов-на-Дону : Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. - 175 с. : ил. - Библиогр.: с. 168-175. - ISBN 978-5-4358-0057-9.

Сидорова С. В.
   Расчет технологических режимов и выбор параметров оборудования для формирования островковых тонких пленок в вакууме : дис... ктн : 05. 27. 06 / Сидорова С. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М., 2016. - 190 л. : ил. - Библиогр.: л. 159-170.

Сидорова С. В.
   Расчет технологических режимов и выбор параметров оборудования для формирования островковых тонких пленок в вакууме : автореф. дис... ктн : 05. 27. 06 / Сидорова С. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М., 2016. - 16 с.

Криони Н. К., Шехтман С. Р., Мигранов М. Ш.
   Наноструктурированные вакуумные ионно-плазменные покрытия : [монография] / Криони Н. К., Шехтман С. Р., Мигранов М. Ш. - М. : Инновационное машиностроение, 2017. - 366 с. : ил. - Библиогр.: с. 340-366. - ISBN 978-5-9500364-1-5.

Акчурин Р. Х., Мармалюк А. А.
   МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники / Акчурин Р. Х., Мармалюк А. А. - М. : ТЕХНОСФЕРА, 2018. - 487 с. : ил. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр. в конце гл. - ISBN 978-5-94836-521-3.

Бабурин А. С.
   Формирование ультрагладких сверхтонких монокристаллических пленок металлов для устройств нанофотоники электронно-лучевым испарением в вакууме : автореф. дис... ктн : 05. 27. 06 / Бабурин А. С. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет). - М., 2019. - 15 с.

Бабурин А. С.
   Формирование ультрагладких сверхтонких монокристаллических пленок металлов для устройств нанофотоники электронно-лучевым испарением в вакууме : дис... ктн : 05. 27. 06 / Бабурин А. С. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (Национальный исследовательский университет). - М., 2019. - 128 л. : ил. - Библиогр.: л. 120-128.

   Физические методы нанесения нанопокрытий : учебное пособие для вузов / Мухин В. С., Будилов В. В., Шехтман С. Р. [и др.] ; ред. Мухин В. С., Шехтман С. Р. - 3-е изд., перераб. и доп. - М. : Юрайт, 2021. - 331 с. : рис., табл. - (Высшее образование). - Библиогр.: с. 328-331. - ISBN 978-5-534-13807-8.

Чжо Зин Пьо
   Формирование плёнок дисульфида молибдена для электроники методом магнетронного распыления стехиометрических мишеней : дис... ктн : 05. 27. 06 / Чжо Зин Пьо ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (Национальный исследовательский университет). - М., 2021. - 150 л. : ил. - Библиогр.: л. 140-150.

Васильев Д. Д.
   Формирование и исследование плёнок WSI для сверхпроводниковых однофотонных детекторов с повышенной эффективностью и площадью детектирования : 05. 27. 06-Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники : дис... ктн / Васильев Д. Д. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (Национальный исследовательский университет). - М., 2021. - 157 л. : ил. - Библиогр.: л. 146-157.