Расширенный поиск

Берлин Е. В., Сейдман Л.
   Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии / Берлин Е. В., Сейдман Л. - М. : ТЕХНОСФЕРА, 2010. - 527 с. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр. в конце гл. - ISBN 978-5-94836-222-9.

Беликов А. И., Булыгина Е. В., Колесник Л. Л.
   Нанесение тонких пленок в вакууме : метод. указания к ла. работам по курсам "Основы вакуумной технологии" и "Инженерный практикум" / Беликов А. И., Булыгина Е. В., Колесник Л. Л. ; ред. Панфилов Ю. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2001. - 83 с. : ил. - Библиогр. в конце работ. - ISBN 5-7038-1849-4.

Рабинович О. И., Крутогин Д. Г., Евсеев В. А.
   Основы технологии электронной компонентной базы. Моделирование технологических процессов получения тонкопленочных материалов : учебно-методическое пособие / Рабинович О. И., Крутогин Д. Г., Евсеев В. А. ; Министерство образования и науки Российской Федерации, Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", Кафедра технологии материалов электроники. - М. : Издательский дом МИСиС, 2012. - 80 с. : ил. - Библиогр. в конце разделов. - ISBN 978-5-87623-566-4.

Пащенко А. С., Пляка П. С., Понмаренко В. О.
   Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике : [монография] / Пащенко А. С., Пляка П. С., Понмаренко В. О. ; РАН. - Ростов-на-Дону : Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. - 175 с. : ил. - Библиогр.: с. 168-175. - ISBN 978-5-4358-0057-9.

Сидорова С. В.
   Расчет технологических режимов и выбор параметров оборудования для формирования островковых тонких пленок в вакууме : дис... ктн : 05. 27. 06 / Сидорова С. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М., 2016. - 190 л. : ил. - Библиогр.: л. 159-170.

Сидорова С. В.
   Расчет технологических режимов и выбор параметров оборудования для формирования островковых тонких пленок в вакууме : автореф. дис... ктн : 05. 27. 06 / Сидорова С. В. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана. - М., 2016. - 16 с.

Криони Н. К., Шехтман С. Р., Мигранов М. Ш.
   Наноструктурированные вакуумные ионно-плазменные покрытия : [монография] / Криони Н. К., Шехтман С. Р., Мигранов М. Ш. - М. : Инновационное машиностроение, 2017. - 366 с. : ил. - Библиогр.: с. 340-366. - ISBN 978-5-9500364-1-5.

Акчурин Р. Х., Мармалюк А. А.
   МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники / Акчурин Р. Х., Мармалюк А. А. - М. : ТЕХНОСФЕРА, 2018. - 487 с. : ил. - (Мир материалов и технологий). - Библиогр. в конце гл. - ISBN 978-5-94836-521-3.

Бабурин А. С.
   Формирование ультрагладких сверхтонких монокристаллических пленок металлов для устройств нанофотоники электронно-лучевым испарением в вакууме : автореф. дис... ктн : 05. 27. 06 / Бабурин А. С. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (национальный исследовательский университет). - М., 2019. - 15 с.

Бабурин А. С.
   Формирование ультрагладких сверхтонких монокристаллических пленок металлов для устройств нанофотоники электронно-лучевым испарением в вакууме : дис... ктн : 05. 27. 06 / Бабурин А. С. ; МГТУ им. Н. Э. Баумана (Национальный исследовательский университет). - М., 2019. - 128 л. : ил. - Библиогр.: л. 120-128.